同社の中核技術は京都大学の藤田静雄教授らが開発した「ミストCVD(化学気相成長)」にある。

新製品は2種とも化学気相成長(CVD)によるコーティング材種。

グラフェン薄膜を作製するには、主に化学気相成長(CVD)を活用するが、1層を作製するのに数時間かかる。これに対し、開発手法は、1層当たり約1分で1層ずつ成長させられる。 ...

物理気相成長(PVD)や化学気相成長(CVD)、エッチングなどで使う半導体製造装置を主対象に、メーカーから装置の部品を預かり精密に洗浄し再生する。

外刃に化学気相成長(CVD)、内刃に物理気相成長(PVD)のコーティングチップを配置し、高速・高能率の加工を実現した。

半導体の基板上にシリコンなどの薄膜を作る化学気相成長(CVD)工程やエッチング工程などで利用される。

金属ナノ粒子の製造は、プラズマ方式による物理的蒸発法や化学気相成長(CVD)方式を用いた塩化物の水素還元法が普及している。

主流の化学気相成長(CVD)やプラズマによる手法より工程が簡単なほか、消費電力も抑えられる。

プラズマ化学気相成長(CVD)法により、PC樹脂上のハードコート層の上に同層の劣化を抑えるガスバリア性の高いシリコーン層を形成する仕組み。

これに化学気相成長(CVD)や物理気相成長(PVD)のコーティングを施し、アルミニウムやチタンなどを蒸着する。

ポリエチレンテレフタレート(PET)などの樹脂フィルム上に触媒化学気相成長法(CAT―CVD)で、酸素やフッ素を含むシリコン系化合物の薄膜を3層重ねて、厚さ0・5マイク...

石川氏は技術を熟知した営業で顧客の信頼を獲得し、成長を支えた》 「京都・上七軒の西陣織屋の生まれで、幼い頃から商売は身近だった。... M&A(合併・買収)を...

一般的なプラズマCVD(化学気相成長)装置で加工が可能。... 成膜はフッ素系ガス環境で行い、フッ素の化学的結合力を生かす。

フェローテックは半導体製造装置向けに、韓国で化学気相成長法(CVD)による炭化ケイ素(SiC)部材(写真)の生産に乗り出す。

【京都】京セラは超硬合金の表面に施した化学気相成長(CVD)コーティングが剥離しにくい鋳鉄用切削チップの新材種を開発し、12日に発売する。

これは水の液相である液滴(ミスト)が、気相である蒸気膜に覆われて浮遊した状態だ。高知工科大学総合研究所の川原村敏幸准教授は、身近で不思議なこの現象を電子デバイス向けの高機能薄膜を作る化...

NTKセラテックは化学気相成長(CVD)装置向けヒーターや静電チャックの製造技術を得意とする。

新開発の強靱(きょうじん)性超硬母材に独自の化学気相成長(CVD)コーティングを適用した。

サムコは半導体や電子部品の開発、製造に必要な化学気相成長(CVD)装置やドライエッチング装置などを手がける。

15年からサンプル出荷している真空スパッタリング装置と真空CVD(化学気相成長)装置を本格投入する。