【レーザーテック・楠瀬治彦副社長/受注も好調】 超高真空下での極端紫外線(EUV)マスクブランクス欠陥の検査装置開発は初めて。

電離圏では、太陽からのX線や極端紫外線によって、高さ60キロ―1000キロメートルにおける地球の大気の一部が電離され、プラスとマイナスの電気を帯びた粒子から成る電離ガス(プラズマ)とな...

【レーザーテック/EUVマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置 ABICS E120】 次世代露光技術の極端紫外線(EUV)を使っ...

極端紫外線(EUV)用フォトレジストの量産を始めた。

半導体の品質向上にスラリーで貢献したい」 ―極端紫外線(EUV)リソグラフィーの関連事業の立ち上げを検討しています。

現行の10ナノメートルチップと同じ「ロー・パワー・プラス(LPP)」プロセスで製造され、より微細な電子回路作製への適用が期待される極端紫外線(EUV)露光装置は使わない...

極端紫外線向け開拓 【JSR上席執行役員電子材料事業部長】 ―極端紫外線(EUV)リソグラフィーを視野に、材...

半導体露光用エキシマレーザー大手のギガフォトン(栃木県小山市、浦中克己社長、0285・28・8410)は、開発中の極端紫外線(EUV)スキャナー用レーザー生成プラズマ&...

競争力を保つためにも、両拠点の増強が現実的だろう」 ―極端紫外線(EUV)による生産技術に向け、新たな材料も求められています。

ギガフォトン(栃木県小山市、0285・28・8410)は極端紫外線(EUV)パイロット光源で稼働率80%以上の稼働率を確認した。

7ナノと同じように極端紫外線(EUV)のリソグラフィーを使いつつ、ナノメートルの厚みのシリコンシートにトランジスタを作り込み、それらを積層して高密度の集積回路を製造する手法にめどをつけ...

【横浜】レーザーテックは極端紫外線(EUV)を使った微細な半導体パターン転写に対応した量産用EUVマスクブランクス(原版)の欠陥検査・解析装置「ABICS E1...

JSRとベルギーの研究機関であるIMECは2日、同国の合弁会社で極端紫外線(EUV)フォトレジストの量産製造設備が完成したと発表した。

JSRとベルギーの研究機関IMECは22日、光源に極端紫外線(EUV)を用いる露光装置向けリソグラフィー材料を生産する合弁会社を設立したと発表した。

極端紫外線(EUV)リソグラフィ向けフォトレジストの量産に備える。

サプライヤーとしては北米プラス南米で考える必要があり、17―19年度の課題と捉えている」 ―半導体向けでは極端紫外線(EUV)による生産技術の前進を受け、露光材料の量...

17―19年度の次期中計でも、M&A(合併・買収)費用として現中計並みの4000億―5000億円を想定している」 ―半導体業界では極端紫外線(EUV&...

半導体の微細化につながる極端紫外線(EUV)露光技術に対応できる感光性材料の開発に注力する。

大学院生時代にはJAXAの月探査機「かぐや」の極端紫外線望遠鏡の開発を手掛けた。

【神戸】兵庫県立大学の原田哲男助教らの研究グループは、次世代半導体での量産適用が有望視される極端紫外線(EUV)リソグラフィー(露光)のフォトマスク評価に使う顕微鏡を開...