[ エレクトロニクス ]

窒化ガリウムパワー半導体実用化へ 東芝がプロセス技術開発

(2017/12/6 05:00)

東芝は次世代パワー半導体として期待される窒化ガリウム素子「金属酸化膜半導体電界効果トランジスタ」(MOSFET)の実用化につながるプロセス技術を開発した。「JFET」と呼ばれる既存の素子に比べ、MOSFETはスイッチング速度を約2倍に高められる。シリコンの性能をしのぐ高性能な窒化ガリウムパワー半導体の実現が近づく。

窒化ガリウムのMOSFETは一般に、ゲート駆動が容易なため高速化できる。ただ、しきい値電圧の変動が大きく、素子の特性がバラつくため、実用化に至っていない。JFETはゲート駆動に電流容量が必要で、高速化に課題があった。

東芝は今回、窒化ガリウムMOSFETのしきい値電圧の変動が、ゲート絶縁膜に含まれる不純物に起因することを突き止めた。さらに、絶縁膜中の不純物である水素原子やフッ素原子を最大限取り除くプロセス技術を開発した。素子のエッチング加工後に、アンモニアによって素子の...

(残り:340文字/本文:740文字)

(2017/12/6 05:00)

PR

総合1のニュース一覧

おすすめコンテンツ

エレクトロニクス実装のためのマイクロ接合科学

エレクトロニクス実装のためのマイクロ接合科学

図解!製造業の管理会計「最重要KPI」がわかる本
会社を本当に良くして事業復活するための徹底解説

図解!製造業の管理会計「最重要KPI」がわかる本 会社を本当に良くして事業復活するための徹底解説

SDGsアクション
<ターゲット実践>インプットからアウトプットまで

SDGsアクション <ターゲット実践>インプットからアウトプットまで

日本製造業の後退は天下の一大事
モノづくりこそニッポンの砦 第3弾

日本製造業の後退は天下の一大事 モノづくりこそニッポンの砦 第3弾

技術大全シリーズ 
塗料大全

技術大全シリーズ 塗料大全

令和上司のすすめ
「部下の力を引き出す」は最高の仕事

令和上司のすすめ 「部下の力を引き出す」は最高の仕事

ご存知ですか?記事のご利用について

カレンダーから探す

閲覧ランキング
  • 今日
  • 今週

ソーシャルメディア

日刊工業新聞社トピックス

セミナースケジュール

イベントスケジュール

もっと見る

PR

おすすめの本・雑誌・DVD

ニュースイッチ

企業リリース Powered by PR TIMES

大規模自然災害時の臨時ID発行はこちら

日刊工業新聞社関連サイト・サービス

マイクリップ機能は会員限定サービスです。

有料購読会員は最大300件、無料登録会員は最大30件の記事を保存することができます。

会員登録/ログイン

このサイトでは、アクセス状況の把握や広告配信などのためにクッキー(Cookie)を使用してしています。このバナーを閉じるか閲覧を継続した場合、クッキーの使用に同意したこととさせていただきます。なお、クッキーの設定や使用の詳細についてはプライバシーポリシーページをご覧ください。

閉じる