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記事検索結果
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JSRは29日、次世代半導体製造プロセスであるダブルパターニング向けに、1回目に形成したパターンを保護する工程を簡略化できるフォトレジストを開発したと発表した。熱硬化させると2回目のフォトレジストに溶...
新製品は半導体の製造工程で使うフォトレジストの材料で、従来主流の高分子系材料に比べ分子量が10分の1と少なく、配線パターンの乱れも抑制できるのが特徴。... 高解像度、高感度、低配線乱れとフォトレジス...
これまでは線幅32ナノメートルから22ナノメートル(ナノは10億分の1)のフォトレジストの開発が中心だったが、今後はフォトレジスト以外の層間絶縁膜や低誘電率材料と呼ばれる半導体材料まで...
今回の買収は、半導体や液晶ディスプレー製造用フォトレジストなどの化学品事業に資本を集中したいAZ社と、半導体製造向けに静電気帯電防止(ESD)特性を発揮するPBI樹脂製の加工用母材を開...
出光興産は18日、次世代プロセスの半導体フォトレジスト向け原料として、アダマンタン誘導体3グレードを市場投入したと発表した。... 本格量産は2010年度からで、2015年度には同プロセスを中心にフォ...
JSRは「(フォトレジストなど)半導体材料の出荷は前年度比12―13%伸びる」(春木二生常務)というものの、税制改正の影響や07年度に実施した設備投資の償却負担...
新たにクリーンルームを設け、テスト加工用として光ナノインプリント技術による回路パターン転写装置や、スプレータイプのフォトレジスト塗布装置、露光装置の3機種を設置。
フォトレジスト原液事業で世界最大手である米セイケム(テキサス州)が開発し、使用済み現像液などからTMAHを高効率で回収する技術「メビウスシステム」を活用する。