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記事検索結果
128件中、3ページ目 41〜60件を表示しています。 (検索にかかった時間：0.008秒)
線幅7ナノメートル(ナノは10億分の1)の最先端プロセスを採用した。7ナノメートル対応の商用プロセッサーはIBM初。
超伝導材料は薄さ10ナノメートル(ナノは10億分の1)以下(図では6・7ナノメートル)、幅100ナノメートル以下の細い超伝導線路を、線幅に対して1万倍以上の長さにまで均...
橋本テクニカル工業(富山市、橋本直幸社長、076・469・1501)は、旋盤やマシニングセンター(MC)などに使う切削液に最小径13・7ナノメートル(ナノは10...
EUV露光は2018年に実用化された回路線幅7ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセス、その先の5ナノメートルプロセスに対応する半導体加工技術。... EUVの波長13.5ナ...
5ナノメートル(ナノは10億分の1)世代という微細な半導体の量産に対応した計測装置「CG7300」を2020年度中に投入する。... EUV露光技術は7ナノおよび5ナノメートル世代の半...
EUV露光は最先端の回路線幅7ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセス、その先の5ナノメートルプロセスに対応する半導体加工技術。... DUV光に比べ1ケタ小さい波長13.5...
日立ハイテクノロジーズは、5ナノメートル(ナノは10億分の1)世代半導体デバイスの量産に対応した計測装置「CG7300」を2020年度中に投入する。... 測長再現精度は、同社従来機比...
EUV露光は最先端の回路線幅7ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセス、その先の5ナノメートルプロセスに対応する半導体加工技術。 ... DUV光に比べて1ケタ小さ...
すでに輸出手続きを厳格化した高純度のフッ化水素とレジストは、回路線幅5ナノ―7ナノメートル(ナノは10億分の1)の最先端半導体の製造に不可欠な材料だ。
EUV露光は10ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の回路線幅を加工できる最先端技術で、量産は世界で始まったばかり。韓国サムスン電子は7ナノメートルと5ナノメートルのプロセス開発を完...
7ナノメートル(ナノは10億分の1)程度までの分子を多孔質層の内部に収容し、マグネタイトの磁力を生かして輸送する。... マグネタイト微粒子と二酸化ケイ素を組み合わせるとき、一般的には...
中国の通信機器メーカー、華為技術(ファーウェイ・テクノロジーズ)は7日、新たなサーバー用半導体チップを発表した。... 華為の発表資料によると、「Kunp...
AGCは28日、光源に波長13・5ナノメートル(ナノは10億分の1)の極端紫外線(EUV)を用いる露光装置向けのフォトマスク材の生産能力を、2020年に現在比約3倍に増...
半導体の微細化は7ナノメートル、5ナノメートル台に突入している中、最先端のEUVリソグラフィプロセスは台湾TSMC、韓国サムスンを中心に量産段階に入りつつある。
この半導体は回路線幅7ナノ(ナノは10億分の1)メートル技術を利用して台湾積体電路製造(TSMC)が製造する。この技術は米インテルが発表している10ナノ品プロセスに相当...
自動車用ヘッドランプのリフレクター金型、レンズ用などの精密金型には、ナノレベル(ナノは10億分の1)の面粗度が求められており、超微細な“シングルナノ”加工も実現している。... A4サ...
ファナックは11月に従来比4倍のA4寸法の加工対象物(ワーク)をナノ(ナノは10億分の1)級の精度で加工できる5軸マシニングセンター(MC)を本格的に市...
主力の金型材料用のほか、特に最小7ミリメートル角材料を精密加工できる両頭フライス盤「BXR150SF=写真」を電子部品や各種の部品加工用にアピールする。 ... 仕上げ加工の...
回路線幅5ナノ―7ナノメートル(ナノは10億分の1)級の先端半導体チップの需要増に対応する。
